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HALO系列“二合一”PECVD

HALO系列“二合一”PECVD

产品特点 1.石墨舟电极技术：前电极面接触，可定期更换清洗电极块，尾电极炉管外可调，加大电极尺寸及优化电极材料，良好解决高频报警问题；
2.快速降温炉体：采用最新专利技术，使炉体温度可以快速降到所需温度，降温速率提升25%以上，明显提升炉管内温度均匀性；
3.专利储舟位并行散热方式：提升降温效果，缩短降温时间15%以上，同时避开底部从操作台前面进气，提高操作台内部洁净度；
4.石英管辅助吊装工具，大大降低安装和维修更换石英管的难度；
5.膜的致密性高于间接等离子体；
6.比ALD有更好的钝化效果。
了解更多

产品应用

项目

技术指标

成膜种类

AlO,SiO,SiON,SiN,SiC

装片量

768片/批(182mm),616片/批(210mm),500片/批(230mm)

氧化铝膜厚均匀性

片内≤6%片间≤6%批间≤5%(182片)

氧化铝折射率

1.65(±0.05)

UP-TIME

≥98%

工作温度范围

100~600℃

温度控制

9点控温，内外双模控制

升温方式

自动斜率升温及快速恒温功能

降温方式

最新专利技术，9温区分段控制主动降温炉体

恒温区精度及长度

±2°C/3200mm(500°C)

单点温度稳定度

<±1°C/4h(500°C)

升温时间

RT→450℃≤45min

温度控制

双模精确控制

系统极限真空度

<3Pa

系统漏气率

停泵关阀后压力升率<1Pa/min

压力控制方式

快速调整全自动闭环

工艺控制方式

工艺过程全自动控制，多重安全连锁报警

人机交互界面

LCD显示、触摸操作、工艺编辑、在线监控、权限管理、班组管理、组网功能

MES/CCRM

具有


产品参数

适用于高效晶体硅PERC电池工艺过程中生长致密的氧化铝等背钝化薄膜材料，具有多种复合膜连续生长的特点。

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